ASML 行将发货首台第二代 High NA EUV 光刻机 EXE:5200

IT之家 2 月 1 日音信，ASML 总裁兼首席推行官 Christophe Fouquet 在上月末的公司 2024 年第四季度财报电话会议上暗示，该企业的首台第二代 0.55 (High) NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5200 行将以“早期器具”的身份运行发货，用于时间熟谙度考据。

▲ EXE:5000 系统

EXE:5200 是现存初代 High NA EUV 光刻机 EXE:5000 的窜改款，说明 Christophe Fouquet 的说法，该型号“更顺应大皆量坐蓐”。而 EXE:5000 看成初期版块主要用于 High NA EUV 光刻时间的成就。

从 ASML 光刻系统的迭代规定来看，EXE:5200 瞻望将领有更高的晶圆蒙胧量（IT之家注：EXE:5000 为每小时 185 片以上），同期守旧更为密致的后 2nm 逻辑半导体工艺。

▲ NXE:3800E 系统

Christophe Fouquet 还提到，其 0.33 (Low) NA EUV 光刻机的最新式号 NXE:3800E 已在工场收场每小时 220 片的缱绻晶圆蒙胧量，较初期的 185 片进一步训诫，比前一代的 NXE:3600D 已进步 37.5%，充分发达了结构窜改带来的上风。